公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
为了制造一款芯片需要几百道工序,光罩也是不只一张的,在14nm工艺制程上,大约需要60张光罩,7nm可能需要80张光罩甚至更多。当然光罩的品质要求是不同的,对于某些对精度要求很高的工序,相对应的光罩对精度的要求时的,比如晶体管相关的光罩,而对精度要求不那么高的工艺,比如Pad(打线孔)等要求就低一些,光罩价格也便宜一些。先进制程对光罩精度的要求越来越高,同时不能有缺陷,所以光罩制造后的检查(Inspection)也很重要。
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Reticle也称为Mask,翻译做光掩模板或者光罩,曝i光过程中的原始图形的载体,通过曝i光过程,这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版,一般是根据客户的要求做的,客户提供图纸我们加工
根据金属化全过程,在硅衬底上布局一层层仅数纳米技术厚的金属材料层。随后在这里层金属材料上覆上一层层光刻胶。这层光阻剂在曝i光(通常是紫外光)后能够被特殊水溶液(显影液)融解。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上,光刻版,能够对光刻胶开展可选择性直射(曝i光)。随后应用前边提及的显影液,融解掉被直射的地区,那样,光掩模上的图型就展现在光刻胶上。一般还将根据风干对策,改进剩下一部分光刻胶的某些特性。所述流程进行后,就能够对衬底开展可选择性的刻蚀或离子注入全过程,未被融解的光刻胶将维护衬底在这种全过程中不被更改。
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